陰圖片準備(bèi)_+裁切_+背(bèi)面曝光(guāng)_÷正面曝光(guāng)一顯影沖(chòng)洗一烘幹(gàn)。去
黏-÷後曝(pù)光。
①陰圖片準(zhǔn)備。
a.測量(liàng)陰圖片(piàn)的(de)尺寸并檢(jiǎn)查(chá)最(zuì)大密(mì)度值，應(yīng)大(dà)于或等于(yú)4.0。
b．檢查(chá)陰圖(tú)片(piàn)質(zhì)量，查(chá)看網(wǎng)點清晰度、文字(zì)線條應整(zhěng)齊實(shí)在，
圖(tú)文部分有無劃傷(shāng)和髒污(wū)，并用抗靜電毛(máo)刷清掃陰圖片(piàn)。
c．檢查圖文方向(xiàng)是否正确，正面(miàn)印刷(shuā)時，從乳劑(jì)一側看圖(tú)文應
是正向；而反面(miàn)印刷(shuā)（裏印）時，從乳劑一側肴圖文應是反(fǎn)向。
②裁(cái)切。确定版材的(de)型号和(hé)厚度後(hòu)，可對版材進行(háng)裁切，裁切時
應(yīng)根據(jù)陰(yīn)圖片尺(chǐ)寸，版邊預留12mm的夾持(chí)餘量，正面朝上(shàng)進行(háng)
裁切。
③背面(miàn)曝光。是指(zhǐ)從版材(cái)背(bèi)面對(duì)印(yìn)版進行(háng)全面(miàn)均勻的(de)曝光，如圖
2 -8 (a)所示。将(jiāng)印版(bǎn)放人曝光(guāng)裝置(zhì)，把印版正面朝(cháo)下放在(zài)曬版架
上吸緊，進(jìn)行曝(pù)光。背面曝光主(zhǔ)要目(mù)的是建立(lì)印版(bǎn)的浮雕深(shēn)度，加(jiā)強(qiáng)
聚酯支(zhī)撐層和感光樹(shù)脂層的(de)黏着力(lì)，并可減(jiǎn)少正面曝光(guāng)的時間。背(bèi)面(miàn)
曝光時(shí)間長(zhǎng)短決定了版(bǎn)基(jī)的厚度，曝(pù)光時間越(yuè)長，版基越(yuè)厚，印版硬
度也越(yuè)大。
④正面(miàn)曝光。也稱爲主曝光，是通過陰圖片(piàn)對柔性版(bǎn)材(cái)的正面
進行(háng)全面曝光，将陰(yīn)圖片上的(de)圖文信息(xī)轉(zhuǎn)移(yí)到版(bǎn)材上(shàng)的(de)過程。如(rú)圖
2-8 (b)所(suǒ)示(shì)。
a．曝光光(guāng)源。一(yī)般采用紫(zǐ)外燈管和高壓(yā)水銀燈作爲光(guāng)源。這(zhè)種(zhǒng)
燈曝光(guāng)效率高，曝(pù)光時(shí)間短，提高了印版的層次(cì)範圍。若要(yào)制作精細
網目版(bǎn)應采用(yòng)2 -3kw的超高壓水銀(yín)燈，以保證良好的層次再(zài)現。
b．具(jù)體操作(zuò)。一般可(kě)按照(zhào)下列順序(xù)進行正面(miàn)曝光(guāng)。
i．放置(zhì)版材。将版(bǎn)材正面(miàn)朝(cháo)上放在曬(shài)版台上，并(bìng)撕下保(bǎo)護膜。
ii．貼(tiē)合陰(yīn)圖片。将陰(yīn)圖片的(de)乳(rǔ)劑面與版(bǎn)材的(de)正面貼合在(zài)一起，
并(bìng)用抗(kàng)靜電刷子(zǐ)把版面(miàn)和負片(piàn)清掃幹淨。
iii.覆蓋(gài)聚酯膜(mó)。未被負(fù)片覆(fù)蓋的(de)版面(miàn)用條(tiáo)狀聚酯或(huò)醋酸(suān)纖維膜
覆(fù)蓋之(zhī)，以(yǐ)防止最(zuì)上層(céng)的覆(fù)蓋膜(mó)粘到(dào)發黏(nián)的版面上(shàng)，并爲抽真(zhēn)空創造
通氣條(tiáo)件。
iv.覆(fù)蓋塑料片(piàn)。将條(tiáo)狀聚(jù)酯膜(mó)、版材和(hé)負(fù)片用(yòng)一張(zhāng)塑料(liào)片統統
蓋(gài)住，用(yòng)軟布(bù)抹平，将膜間的空氣排出(chū)。
v.抽真(zhēn)空。抽真空(kōng)時應(yīng)控制真空壓力(lì)，一般(bān)情況下，真(zhēn)空壓力
應(yīng)在0. 8pa以(yǐ)上。
vi.曝光。抽(chōu)真空後，開(kāi)啓光源，即(jí)可進行曝光。
．曝(pù)光(guāng)時(shí)間。曝光時(shí)間取決于負片(piàn)上圖文的種類(lèi)，細線條(tiáo)和(hé)網
點需要(yào)的曝光量(liàng)比實地(dì)陰(yīn)文的(de)多。曝光(guāng)時間因(yīn)光源的(de)強度、版的厚度(dù)
不同而不同，對(duì)于厚爲(wèi)2 -4mm厚的版，曝光時(shí)間一(yī)般是幾分(fèn)鍾到(dào)十
幾分鍾(zhōng)。
柔性版曬(shài)版也可采用圓形曝(pù)光(guāng)的方法，
如圖(tú)2-9所示(shì)。
把(bǎ)按尺寸(cùn)要求裁好(hǎo)的感光版(bǎn)材撕去保(bǎo)護
膜，用(yòng)雙面膠(jiāo)帶把(bǎ)它的片基(jī)面粘貼(tiē)在裝版(bǎn)輥
上，用有膠的(de)連接片和陰圖(tú)片連(lián)接好(hǎo)，把圖(tú)
像或文字(zì)位置(zhì)與感光柔印版(bǎn)接口(kǒu)對(duì)好(hǎo)，拉緊(jǐn)
彈簧。開燈、開動(dòng)馬達，使從(cóng)a點到b點的(de)
時間恰好(hǎo)等于平面曝光(guāng)的時間(jiān)，就這樣一面
轉動(dòng)，一面(miàn)曝光(guāng)，直到最後(hòu)圖(tú)文(wén)離(lí)開b位
置。圓形曬版對于(yú)曬制套色版很(hěn)有必(bì)要，可(kě)
解決(jué)套色不準(zhǔn)和陰(yīn)圖(tú)尺(chǐ)寸需計算(suàn)糾正的
問題。
⑤顯影沖洗。版(bǎn)面經(jīng)曝光(guāng)後(hòu)，見(jiàn)光部(bù)分
硬化，未(wèi)硬化(huà)的部位樹脂需(xū)要用顯影液溶劑
除去的(de)工藝(yì)過程(chéng)，稱爲顯影(yǐng)。如圖2-8 (c)
所示。
顯影(yǐng)的目的(de)是(shì)除去未(wèi)見光部分的感光(guāng)樹脂(zhī)，形成凸起(qǐ)的浮(fú)雕圖
文。未曝光(guāng)的部位在(zài)溶劑的作用(yòng)下用刷(shuā)子除(chú)去(qù)，刷(shuā)下去的深(shēn)度就是圖(tú)
文浮雕的高度(dù)。而顯影的時間(jiān)由版(bǎn)材的厚度和版面(miàn)圖文的(de)面積(jī)所确
定，不(bú)同(tóng)的版(bǎn)材采用(yòng)不同(tóng)的顯(xiǎn)影液(yè)。一般薄版，小圖文面積時，顯影(yǐng)
時間(jiān)不超過10分(fèn)鍾。而(ér)對于(yú)厚版(bǎn)，圖文(wén)面積(jī)較大時，顯影(yǐng)時間可(kě)控
制在(zài)20分鍾左右。若(ruò)顯影時間(jiān)不足會出現浮雕深(shēn)度淺(qiǎn)、底面(miàn)不平，
甚至出現浮渣(zhā)等。反之顯影時(shí)間過(guò)長，則(zé)會出(chū)現圖文破(pò)損、變形(xíng)及版面高低不平等現(xiàn)象。一般(bān)顯影都是在專用顯影(yǐng)機内完成(chéng)。每次(cì)顯影後(hòu)
都(dōu)應适當補充新鮮的(de)顯影液，以保持(chí)顯影液中樹脂(zhī)含量(liàng)的穩定性(xìng)。否
則會造(zào)成(chéng)版面顯(xiǎn)影的品質(zhì)問題。
⑥烘(hōng)幹(gàn)。沖洗(xǐ)顯影後的(de)印版(bǎn)，由于(yú)大量(liàng)溶劑(jì)滲入(rù)到版材内部，造
成出(chū)現印(yìn)版膨(péng)脹(zhàng)變厚，變(biàn)得黏而軟，圖文(wén)變(biàn)形(xíng)等(děng)現象。如(rú)果依(yī)靠自然
揮(huī)發則(zé)需很長時(shí)間，爲此(cǐ)應(yīng)采用烘箱或熱(rè)風來進行幹燥。烘箱的溫(wēn)度
應保持(chí)在50—70c，幹燥時間厚版幹(gàn)燥(zào)需要長(zhǎng)一點(diǎn)，而薄(báo)版則(zé)短(duǎn)一(yī)
點。幹燥時(shí)間和溫度不夠，不能充分幹燥(zào)，版面膨脹(zhàng)不均勻，印(yìn)刷時
會出(chū)現爛版現(xiàn)象；溫(wēn)度過高會使版材變(biàn)形，并不能複原，甚至變脆(cuì)而
影(yǐng)響印(yìn)版壽(shòu)命。如圖2-8 (d)所示。
⑦去(qù)黏。也稱爲後處(chù)理，印(yìn)版經(jīng)顯影(yǐng)幹燥後(hòu)，版面具(jù)有一(yī)定的黏
性(xìng)。去黏的目的就(jiù)是去(qù)除版(bǎn)面的(de)黏性，增強(qiáng)版面(miàn)的着墨能力。目前常
用的去黏(nián)方法有三種，即(jí)光處(chù)理(lǐ)法、化學(xué)處理(lǐ)法和噴粉(fěn)處理(lǐ)法(fǎ)。而去
黏(nián)可在(zài)後曝光前(qián)也可在後(hòu)曝光(guāng)後進(jìn)行(háng)。
a．光處理法。用波長(zhǎng)爲245nm的短波光(guāng)源（也即(jí)uv-c光源(yuán)），
對版面進行短時間(jiān)的照(zhào)射，光照時(shí)間取(qǔ)決于顯影和烘(hōng)幹時間，以(yǐ)能達
到去黏爲宜。時(shí)間過短(duǎn)不能達(dá)到去黏目的，時間過長會(huì)造成(chéng)印版開(kāi)裂
變脆(cuì)。如圖2-8 (e)所(suǒ)示。
b．化學(xué)處理(lǐ)法。用(yòng)化學(xué)溶劑對版面進(jìn)行的去黏(nián)處理(lǐ)法，按所用(yòng)
處理(lǐ)溶劑(jì)不同有兩(liǎng)種方(fāng)式(shì)，即氯化(huà)處理(lǐ)（漂白粉水(shuǐ)溶液）和溴(xiù)化處理
（鹽(yán)酸(suān)和溴化(huà)物溶液）。去(qù)黏處理(lǐ)時(shí)間主(zhǔ)要取(qǔ)決于版(bǎn)材(cái)的(de)類型、去黏液(yè)
配方和溫度等，去黏(nián)處理後須用清水沖洗幹淨。
c．噴粉處理(lǐ)法。将細(xì)玉米粉或(huò)滑石(shí)粉噴(pēn)灑(sǎ)在版面(miàn)上的(de)處理方法，
這種方(fāng)法簡單(dān)易行(háng)，但不(bú)适合(hé)于細(xì)線(xiàn)條(tiáo)和網(wǎng)目版，因爲噴粉(fěn)會導緻(zhì)版
面堆墨。
⑧後曝光。就是(shì)在幹燥、去黏後(hòu)對印(yìn)版表(biǎo)面進(jìn)行最後的全面(miàn)而均
勻的(de)曝光(guāng)。目的是使版材(cái)内部沒有硬化的樹(shù)脂徹(chè)底交(jiāo)聯，全(quán)面硬化達
到工(gōng)藝所需的硬(yìng)度，提高印版(bǎn)的耐印力和耐(nài)溶劑性。但是若印版的硬
度過高，對細(xì)線(xiàn)條和(hé)網目調印版，會(huì)出現(xiàn)圖文(wén)變形(xíng)、小網(wǎng)點丢失等(děng)現
象，因(yīn)此後曝光時間和光強(qiáng)度(dù)要(yào)控(kòng)制(zhì)好。如圖2-8 (f)所(suǒ)示。
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